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技術(shù)文章/ article

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  • 2025-04-25

    全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子器件、光電器件等領(lǐng)域的重要薄膜沉積設(shè)備。該系統(tǒng)利用磁控濺射技術(shù)將靶材表面物質(zhì)濺射到基材上,從而形成薄膜。由于其高效、精確且可控制的特點(diǎn),磁控濺射系統(tǒng)在現(xiàn)代科技生產(chǎn)中占據(jù)了重要地位。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的工作流程:1.預(yù)處理階段:首先,濺射室內(nèi)需要進(jìn)行真空抽氣,以降低環(huán)境中的氣體壓力。然后,通過氣體注入系統(tǒng)注入氬氣等氣體,使得濺射室內(nèi)形成合適的氣氛。2.靶材激活階段:施加電壓至靶材上,電流流經(jīng)靶材產(chǎn)生等離子體。離子加速撞擊靶材表面,...

  • 2025-03-24

    ICP等離子刻蝕機(jī)是一種常用于微電子、半導(dǎo)體以及光電子器件制造中的高精度刻蝕設(shè)備。能夠通過在特定氣氛下產(chǎn)生等離子體,用于去除材料表面上的薄層,進(jìn)行表面加工或圖案刻蝕。被廣泛應(yīng)用于集成電路(IC)制造、光纖通信、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、太陽能電池和各種傳感器的生產(chǎn)中。ICP等離子刻蝕機(jī)的主要特點(diǎn):1.高刻蝕速率:在相同條件下,ICP技術(shù)能夠產(chǎn)生比傳統(tǒng)刻蝕方法(如RIE,反應(yīng)離子刻蝕)更高密度的等離子體,從而實(shí)現(xiàn)更快的刻蝕速度。這使得ICP刻蝕機(jī)在生產(chǎn)過程中具有更高的生產(chǎn)效率,特...

  • 2025-01-17

    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于微電子領(lǐng)域的加工設(shè)備,特別是在半導(dǎo)體制造過程中,RIE被用來刻蝕薄膜、材料和多層結(jié)構(gòu)。其主要功能是通過反應(yīng)性氣體在真空環(huán)境中引發(fā)電離、化學(xué)反應(yīng)和物理刻蝕,從而精確地去除材料表面,形成所需的圖形或結(jié)構(gòu)。反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的主要組成部分:1.反應(yīng)腔體:RIE的核心部分,真空腔體內(nèi)的樣品放置在特定位置,與氣體反應(yīng)并被刻蝕。2.氣體源系統(tǒng):提供反應(yīng)性氣體或刻蝕氣體,通常包括氟化氫(HF)、氯化氫(Cl2)、氧氣(O2)、氮?dú)猓∟2)等。不同的氣體組合會(huì)對不同...

  • 2024-12-24

    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、光電子等領(lǐng)域的刻蝕技術(shù)。基本原理是利用等離子體中的化學(xué)反應(yīng)和離子轟擊相結(jié)合,選擇性地去除材料表面的一層薄膜。反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的工作原理:1.等離子體的生成:RIE設(shè)備通過在低壓環(huán)境下向氣體中施加電場,使氣體分子發(fā)生電離,形成等離子體。等離子體是由自由電子、離子、原子、分子和自由基等組成的。這些離子和自由基可以與待刻蝕的材料發(fā)生反應(yīng)或進(jìn)行物理刻蝕。2.刻蝕過程:在反應(yīng)離子刻蝕中,氣體分子被電離后會(huì)形成帶正電...

  • 2024-11-23

    全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)(MagnetronSputteringSystem)是一種廣泛應(yīng)用于材料表面處理和薄膜沉積的設(shè)備,常用于電子、光學(xué)、半導(dǎo)體、太陽能、傳感器、裝飾等行業(yè)。濺射技術(shù)通過將高能離子轟擊目標(biāo)材料,使目標(biāo)材料原子或分子濺射到基材表面,從而形成均勻的薄膜層。磁控濺射系統(tǒng)則在傳統(tǒng)磁控濺射設(shè)備的基礎(chǔ)上,結(jié)合了自動(dòng)化控制技術(shù),提升了生產(chǎn)效率、薄膜質(zhì)量以及操作的便捷性。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的工作原理:1.等離子體的形成:在真空室內(nèi),電源提供高電壓(一般為幾百伏特)在靶材和基材之...

  • 2024-10-26

    ICP等離子刻蝕機(jī)的工作原理基于利用射頻電源在反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生高密度的等離子體,這些等離子體包含大量的活性粒子,如離子、電子、自由基等。在強(qiáng)電場的作用下,這些活性粒子與被加工的材料表面發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)材料的去除。ICP等離子刻蝕機(jī)的技術(shù)特點(diǎn):1.高密度等離子體源:采用感應(yīng)耦合方式產(chǎn)生高密度等離子體,提高了刻蝕速率和均勻性。2.良好的各向異性:由于等離子體的方向性較強(qiáng),ICP刻蝕機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)高各向異性的刻蝕,有利于深寬比大的微結(jié)構(gòu)的制備。3.寬工藝窗口:ICP刻蝕機(jī)能夠在...

  • 2024-10-10

    飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜(TimeofFlightSecondaryIonMassSpectrometry,TOF-SIMS)是通過高能量的一次離子束轟擊樣品表面,使樣品表面的原子或原子團(tuán)吸收能量而從表面發(fā)生濺射產(chǎn)生二次粒子,這些帶電粒子經(jīng)過質(zhì)量分析器后就可以得到關(guān)于樣品表面信息的圖譜。SIMS用于在超高真空條件下分析固體樣品中元素、分子和同位素的分布和相對濃度,是zui靈敏的表面分析技術(shù)之一。SIMS可用于成像、光譜分析和深度剖面/三維分析。光譜分析模式可用于評估聚合物涂層的組...

  • 2024-09-25

    全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)是一種利用磁場控制電子運(yùn)動(dòng)軌跡,使電子與靶材發(fā)生碰撞并濺射出原子或分子,從而在基片上形成薄膜的設(shè)備。與傳統(tǒng)的磁控濺射設(shè)備相比,在結(jié)構(gòu)上增加了自動(dòng)化控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)對整個(gè)濺射過程的精確控制和自動(dòng)化操作。主要由真空室、磁控濺射源、基片加熱器、真空測量與控制系統(tǒng)以及自動(dòng)化控制系統(tǒng)等部分組成。其中,自動(dòng)化控制系統(tǒng)是核心部分,它通過接收傳感器的信號,實(shí)時(shí)監(jiān)測濺射過程中的各項(xiàng)參數(shù)(如真空度、溫度、電流等),并根據(jù)預(yù)設(shè)的程序自動(dòng)調(diào)整各項(xiàng)參數(shù),以保證薄膜的質(zhì)量和一致性。廣...

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